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技術(shù)資料
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EDI設(shè)備說明書
時間:2020/6/17
純水設(shè)備,超純水設(shè)備,去離子水設(shè)備,廢水處理設(shè)備-


一. 前言

EDI(Electrodeionization)是一種具有革命意義的水處理技術(shù),它巧妙地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)相融合,無需酸堿,而能連續(xù)制取高品質(zhì)純水。它具有技術(shù)先進(jìn)操作簡便、良好的環(huán)保特性,代表著一種行業(yè)方向,能廣泛應(yīng)用于電力醫(yī)藥、化工、電子等到行業(yè)。它的出現(xiàn)是水處理技術(shù)的一次革命性的進(jìn)步,標(biāo)志著水處理工業(yè)最終全面跨入綠色產(chǎn)業(yè)的行列。

二. EDI的工作結(jié)構(gòu)原理圖

三. EDI 進(jìn)水要求

1. 給水:RO 產(chǎn)水,電導(dǎo)率為2-30μs/cm。最好電導(dǎo)率〈10μs/cm。

2. PH值5.0-8.0(最好為7.0-9.0,但硬度不可太高)。

3. 水溫度:5-35ОC。

4. 硬度(以CaCO3計):最大為1.0PPM,最好為0.1PPM。

5. 有機(jī)物:最大為0.5PPMTOC建議值為零。

6. 氧化劑:最大為0.05ppmcl2),0.02ppmO3),最好兩者為零。

7. 變價金屬:最大為0.01ppm Fe。

8. 二氧化硅:50-150ppb。

9. 二氧化碳的總量:CO2含量和PH值將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。在大于10ppm時一般應(yīng)在EDI 設(shè)備前安裝脫氣裝置。

10. 進(jìn)水壓力:最大為0.4MPA,最小為0.12MPA

11. 出水壓力:濃水和電極水的出口壓力必需低于產(chǎn)品水的出口壓力

四. 操作參數(shù)

C-1000膜堆運(yùn)行參數(shù)

序 號

項 目

單 位

參 數(shù)

1

淡水進(jìn)水流量

LPM

21-23

2

濃水循環(huán)流量

LPM

5-6

3

淡水進(jìn)水壓力

MPA

0.24-0.3

4

濃水進(jìn)水壓力

MPA

0.22-0.26

5

產(chǎn)品水流量

LPM

17-18

6

產(chǎn)水出口壓力

MPA

0.02-0.03

7

濃水出口壓力

MPA

0

8

淡水進(jìn)水電導(dǎo)率

μs/cm

<20

9

濃水進(jìn)水電導(dǎo)率

μs/cm

<150

10

極水流量

LPM

1 有水排出即可

11

膜堆直流電壓

V

150-250

12

膜堆直流電流

A

3.0

13

回收率

90-95%

建議在穩(wěn)流狀態(tài)下操作,操作電流2.0A,電壓隨著濃水電導(dǎo)率升降而自動調(diào)整。

五、 EDI 整機(jī)平面示意圖

六、 EDI 開機(jī)與關(guān)機(jī)

開機(jī):

首先檢查淡水箱和濃水箱循環(huán)箱內(nèi)是否有水,略微打開淡水進(jìn)水調(diào)節(jié)閥、產(chǎn)水出水調(diào)節(jié)閥、濃水進(jìn)水調(diào)節(jié)閥和極水進(jìn)水調(diào)節(jié)閥。打開電源總開關(guān),啟動淡水泵(泵1)和濃水泵(泵2),調(diào)節(jié)淡水進(jìn)水流量和濃水進(jìn)水流量以及產(chǎn)水流量(具體操作數(shù)據(jù)參考上述C-1000膜堆運(yùn)行參數(shù))。調(diào)節(jié)電壓旋鈕(在穩(wěn)壓狀態(tài)下),使電壓加至所需數(shù)量。如果濃水電導(dǎo)率超出150μs/cm,略微打開濃水電導(dǎo)調(diào)節(jié)閥。為提高水的利用率,濃水排放閥的出水可接至RO前的原水箱中。

注意:開機(jī)時先通水再加電。

關(guān)機(jī):

先調(diào)節(jié)電旋鈕,使電壓降至零,再關(guān)閉泵1和泵2,關(guān)閉淡水進(jìn)水調(diào)節(jié)閥、關(guān)閉總電源開關(guān)即可。

注意:關(guān)機(jī)時先關(guān)電再關(guān)水。

七、 膜塊的清洗及維護(hù)

1. 在運(yùn)行中,如果將較差的給水引進(jìn)組件,或者電源不足,就會增加維修工作量。

2. 給水中主要引起結(jié)垢的是TOC,硬度和鐵。

3. 給水硬度較高將引起離子交換濃水側(cè)結(jié)垢,而使純水水質(zhì)降低。同時給水硬度,溶解的CO2和高PH會加速結(jié)垢,可以用適當(dāng)?shù)乃崛芤呵逑次酃浮?/span>

4. 給水中的有機(jī)物污染,會在離子交換樹脂和離子交換膜表面形成薄膜 ,將嚴(yán)重影響離子遷移速率,從而影響純水水質(zhì)。當(dāng)發(fā)生此現(xiàn)象時,純水室需用適當(dāng)?shù)那逑础?/span>

5. 如果EDI組件在無電線或給電不足的情況下運(yùn)行,交換床內(nèi)離子處于離子飽和狀態(tài),純水的純度會降低。為了再生離子交換樹脂,需將水流通過組件,并慢慢增加電源供應(yīng)電壓,使被吸附的離子遷移出系統(tǒng)。樹脂再生時,組件將通過比正常運(yùn)行更多的電流。

6. 警告:如果電源沒有過電流保護(hù),注意不要超過電源的供電容量。

7. 電極連接器應(yīng)該定期檢查,以防由周圍條件引起腐蝕或松弛,以免增加電阻,阻礙電流渡過,導(dǎo)致純水水質(zhì)下降。

8. 若膜外部需要清洗請注意以下幾點(diǎn):

禁止使用丙酮或其它的溶劑。

當(dāng)電源開啟時禁用水。

擦洗時使用潮濕的布,可浸少量清潔劑。

注意保護(hù)安全標(biāo)簽。

八、 濃水側(cè)結(jié)垢酸清洗方法

在濃水循環(huán)箱內(nèi)配制50升2.5%濃度的HCL溶液,(50L去離子水,3500ml37%分析純HCL溶液)注意先加水后加酸。開啟濃水泵循環(huán)清洗3分鐘(濃水壓力控制在0.1Mpa以下),然后停泵用清洗液浸泡15分鐘,再開啟泵循環(huán)5分鐘。最后排放清洗液,用去離子水沖洗殘留的清洗液。

九、 膜塊的再生過程

當(dāng)一個膜塊內(nèi)部的樹脂被離子消耗盡的時候,需要再生。這種情況可能在清洗、停機(jī)或膜塊電壓過低或被關(guān)閉時發(fā)生。

再生過程將樹脂中多余的離子帶出膜塊,使膜塊在穩(wěn)定狀態(tài)下運(yùn)行。再生過程在短時間內(nèi)大幅度地改變系統(tǒng)參數(shù)將樹脂中多余的離子帶出膜塊,給水離子濃度會降低,電場驅(qū)動力將增加,多余的離子將從淡水室到濃水室。

啟動EDI系統(tǒng),使淡水流量、濃水流量控制在日常流量的一半,極水流量不變,將電源設(shè)置為通常的150%-200%。在運(yùn)行1 個小時后,將流量和電源恢復(fù)到日常值上(這一點(diǎn)非常重要)。

十、 注意事項

在停機(jī)期間EDI膜堆必需保持濕態(tài)。

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