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反滲透膜元件的污染物：在正常運行一段時間后，反滲透膜元件會受到在給水中可能存在的懸浮物質(zhì)或難溶物質(zhì)的污染，這些污染物中最常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅沉積物及有機(jī)或生物沉積物。
污染物的性質(zhì)及污染速度與給水條件有關(guān)，污染是慢慢發(fā)展的，如果不在早期采取措施，污染將會在相對短的時間內(nèi)損壞膜元件的性能。
定期檢測系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件發(fā)生污染的一個好方法，不同的污染物會對膜元件性能造成不同程度的損害。
◎清洗周期判斷的一般原則：污染物的去除可通過化學(xué)清洗和物理沖洗來實現(xiàn)，有時亦可通過改變運行條件來實現(xiàn)，作為一般的原則，當(dāng)下列情形之一發(fā)生時應(yīng)進(jìn)行清洗。
※在正常壓力下如果產(chǎn)品水流量降至正常值的10～15%；
※為了維持正常的產(chǎn)品水流量，經(jīng)溫度校正后的給水壓力還是增加了10～15%；
※產(chǎn)品水質(zhì)降低10～15%；鹽透過率增加10～15%；
※使用壓力增加10～15%；
※RO各段間的壓差增加明顯。
反滲透膜的污染物
◎碳酸鈣垢
在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障而導(dǎo)致給水PH值升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來，應(yīng)盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH至3.0～5.0之間運行1～2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應(yīng)采用檸檬酸清洗液進(jìn)行循環(huán)清洗或通宵浸泡。
注：應(yīng)確保任何清洗液的PH不要低于2.0，否則可能會對RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應(yīng)注意，最高的PH不應(yīng)高于11.0。可使用氨水來提高PH，使用硫酸或鹽酸來降低PH值。
◎硫酸鈣垢
清洗液2（參見表2）是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的最佳方法。
◎金屬氧化物垢
可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物（例如氫氧化鐵）。
◎硅垢：
對于不是與金屬氧化物或有機(jī)物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們?nèi)コ嘘P(guān)的詳細(xì)方法請與海德能公司聯(lián)系。
◎有機(jī)沉積物
有機(jī)沉積物（例如微生物粘泥或霉斑）可以使用清洗液3去除，為了防止再繁殖，可使用經(jīng)海德能公司認(rèn)可的殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用超過三天時，最好采用消毒處理，請與海德能公司會商以確定適宜的殺菌劑。
反滲透膜污染的清洗方法
◎清洗液
清洗反滲透膜元件時建議采用表1所列的清洗液。確定清洗液前對污染物進(jìn)行化學(xué)分析是十分重要的，對分析結(jié)果的詳細(xì)分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應(yīng)記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據(jù)。
對于無機(jī)污染物建議使用清洗液1。對于硫酸鈣及有機(jī)物建議使用清洗液2。對于嚴(yán)重有機(jī)物污染建議使用清洗液3。所有清洗液可以在最高溫度為華氏104度（攝氏40℃）下清洗60分鐘，所需用品量以每100加侖（379升）中加入量計，配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水，應(yīng)采用不含游離氯的反滲透產(chǎn)品來配制溶液并混合均勻。
表1.建議使用的常見清洗液
清洗液 成份 配制100加侖（379升）溶液時的加入量 PH調(diào)節(jié)
1 檸檬酸
反滲透產(chǎn)品水（無游離氯） 17.0磅（7.7公斤）
100加侖（379升） 用氨水調(diào)節(jié)PH至3.0
2 三聚磷酸鈉
EDTA四鈉鹽
反滲透產(chǎn)品水（無游離氯） 17.0磅（7.7公斤）
7磅（3.18公斤）
100加侖（379升） 用硫酸調(diào)節(jié)PH至10.0
3 三聚磷酸鈉
十二烷基苯磺酸鈉
反滲透產(chǎn)品水（無游離氯） 17.0磅（7.7公斤）
1.13磅（0.97公斤）
100加侖（379升） 用硫酸調(diào)節(jié)PH至10.0
◎反滲透膜元件的化學(xué)清洗與水沖洗
清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的濃水道循環(huán)，此時膜元件仍裝在壓力容器內(nèi)而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。
清洗反滲透膜元件的一般步驟：
1.用泵將干凈、無游離氯的反滲透產(chǎn)品水從清洗箱（或相應(yīng)水源）打入壓力容器中并排放幾分鐘。
2.用干凈的產(chǎn)品水在清洗箱中配制清洗液。
3.將清洗液在壓力容器中循環(huán)1小時或預(yù)先設(shè)定的時間，對于8英寸或8.5英寸壓力容器時，流速為35到40加侖/分鐘（133到151升/分鐘），對于6英寸壓力容器流速為15到20加侖/分鐘（57到76升/分鐘），對于4英寸壓力容器流速為9到10加侖/分鐘（34到38升/分鐘）。
4.清洗完成以后，排凈清洗箱并進(jìn)行沖洗，然后向清洗箱中充滿干凈的產(chǎn)品水以備下一步?jīng)_洗。
5.用泵將干凈、無游離氯的產(chǎn)品水從清洗箱（或相應(yīng)水源）打入壓力容器中并排放幾分鐘。
6.在沖洗反滲透系統(tǒng)后，在產(chǎn)品水排放閥打開狀態(tài)下運行反滲透系統(tǒng)，直到產(chǎn)品水清潔、無泡沫或無清洗劑（通常需15到30分鐘）。
表2.反滲透膜污染特征及處理方法
污染物 一般特征 處理方法
1.鈣類沉積物
（碳酸鈣及磷酸鈣類，一般發(fā)生于系統(tǒng)第二段） 脫鹽率明顯下降
系統(tǒng)壓降增加
系統(tǒng)產(chǎn)水量稍降 用溶液1清洗系統(tǒng)
2.氧化物
（鐵、鎳、銅等） 脫鹽率明顯下降
系統(tǒng)壓降明顯升高
系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低 用溶液1清洗系統(tǒng)
3.各種膠體
（鐵、有機(jī)物及硅膠體） 脫鹽率稍有降低
系統(tǒng)壓降逐漸上升
系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸減少 用溶液2清洗系統(tǒng)
4.硫酸鈣
（一般發(fā)生于系統(tǒng)第二段） 脫鹽率明顯下降
系統(tǒng)壓降稍有或適度增加
系統(tǒng)產(chǎn)水量稍有降低 用溶液2清洗系統(tǒng)，
污染嚴(yán)重用溶液3清洗
5.有機(jī)物沉積 脫鹽率可能降低
系統(tǒng)壓降逐漸升高
系統(tǒng)產(chǎn)水量逐漸降低 用溶液2清洗系統(tǒng)，
污染嚴(yán)重時用溶液3清洗
6.細(xì)菌污染 脫鹽率可能降低
系統(tǒng)壓降明顯增加
系統(tǒng)產(chǎn)水量明顯降低 依據(jù)可能的污染種類
選擇三種溶液中的一種
清洗系統(tǒng)
說明：必須確認(rèn)污染原因，并消除污染源，如需幫助請與新亞公司聯(lián)系。
膜元件用殺菌劑及保護(hù)液簡介
本文提供了有關(guān)殺菌劑的一般信息，文中所說殺菌劑可用于膜元件的殺菌或儲存保護(hù)。在對膜元件儲存或消毒殺菌以前，應(yīng)首先確認(rèn)系統(tǒng)中膜元件的類型，因為膜元件有可能是醋酸膜也可能是復(fù)合膜。下文所列的一些方法，特別是使用游離氯的方法，只能使用于醋酸膜，如用于復(fù)合膜元件則會損壞這些元件。如果不能確認(rèn)系統(tǒng)中所使用的膜元件的類型時，請與海德能公司聯(lián)系。
如果給水中含有任何硫化氫或溶解性鐵離子或錳離子，則不應(yīng)使用氧化性殺菌劑（氯氣及過氧化氫），有關(guān)殺菌的其他方法請與海德能公司聯(lián)系。
◎聚酰胺復(fù)合膜用殺菌劑
※甲醛
濃度為0.1到1.0%的甲醛溶液可用于系統(tǒng)殺菌及長期停用保護(hù)，至少應(yīng)在膜元件使用24小時后才可與甲醛接觸。
※異噻唑啉
異噻唑啉由水處理藥品制造商來供應(yīng)，其商標(biāo)名為Kathon，市售溶液含1.5%的活性成份，Kathon用于殺菌和存貯時的建議濃度為15到25ppm。
◎膜元件用殺菌劑及保護(hù)液
※亞硫酸氫鈉
亞硫酸氫鈉可用作微生物生長的抑制劑，在使用亞硫酸氫鈉控制生物生長時，可以500ppm的劑量每天加入30～60分鐘，在用于膜元件長期停運保護(hù)時，可用1%的亞硫酸氫鈉作為其保護(hù)液。
※過氧化氫
可使用過氧化氫或過氧化氫與乙酸的混合液作為殺菌劑，必須特別注意的是在給水中不應(yīng)含有過渡金屬(Fe、Mn)，因為如果含有過渡金屬時會使膜表面氧化從而造成膜元件的降解，在殺菌液中的過氧化氫濃度不應(yīng)超過0.2%，不應(yīng)將過氧化氫用作膜元件長期停運時的保護(hù)液。在使用過氧化氫的場合其水溫度不超過25℃